Erweiterte
Suche ›

Silizium-Halbleitertechnologie

Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik

Vieweg & Teubner,
Buch
29,95 € Preisreferenz Lieferbar in 2-3 Tagen

Kurzbeschreibung

Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik. Der 5. Auflage wurde 'Atomic Layer Deposition' hinzugefügt, das Kapitel zur PECVD-Abscheidung wurde ergänzt und High-k-Dielektrika in Herstellung und Anwendung wurden zusätzlich eingearbeitet.

Details
Schlagworte
Autor

Titel: Silizium-Halbleitertechnologie
Autoren/Herausgeber: Ulrich Hilleringmann
Ausgabe: 5., erg. u. erw. Aufl. 2008

ISBN/EAN: 9783835102453
Originalsprache: Deutsch

Seitenzahl: 338
Format: 21 x 14,8 cm
Produktform: Taschenbuch/Softcover
Gewicht: 461 g
Sprache: Deutsch

Prof. Dr.-Ing. Ulrich Hilleringmann ist Leiter des Fachgebietes Sensorik an der Universität Paderborn und lehrt Halbleitertechnologie, Messtechnik, Sensorik und Prozessmesstechnik.

buchhandel.de - Newsletter
Möchten Sie sich für den Newsletter anmelden?


Bitte geben Sie eine gültige E-Mail-Adresse ein.
Lieber nicht